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首页 > 热门关键词 > 美国微芯MOS驱动
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是新一代高压N沟道增强型功率MOSFET。这项新技术可最大程度减少JFET效应,提高封装密度并降低导通电阻。还通过优化栅极布局实现更快的开关速度。
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  • 这种增强型(常关)晶体管采用垂直 DMOS 结构和成熟的硅栅制造工艺。这种结合使器件具备双极晶体管的功率处理能力,以及 MOS 器件固有的高输入阻抗和正温度系数。作为所有 MOS 结构的特性,该器件不会出现热失控和热致二次击穿。适用于需要非常低的阈值电压、高击穿电压、高输入阻抗、低输入电容和快速开关速度的各种开关和放大应用。
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  • 低阈值增强型(常关)晶体管采用垂直 DMOS 结构和成熟的硅栅制造工艺。这种组合使器件具备双极晶体管的功率处理能力,以及 MOS 器件固有的高输入阻抗和正温度系数。作为所有 MOS 结构的特性,该器件不会出现热失控和热致二次击穿。适用于需要极低阈值电压、高击穿电压、高输入阻抗、低输入电容和快速开关速度的各种开关和放大应用。
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  • 该增强型(常关)晶体管采用垂直 DMOS 结构和成熟的硅栅制造工艺。这种结合产生的器件具有双极晶体管的功率处理能力,以及 MOS 器件固有的高输入阻抗和正温度系数。作为所有 MOS 结构的特性,该器件不会出现热失控和热致二次击穿现象。适用于需要非常低的阈值电压、高击穿电压、高输入阻抗、低输入电容和快速开关速度的各种开关和放大应用。
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  • VP2450是一款低阈值、增强型(常关)晶体管,采用垂直双扩散金属氧化物半导体(DMOS)结构和成熟的硅栅制造工艺。这种结合使得该器件兼具双极晶体管的功率处理能力,以及MOS器件固有的高输入阻抗和正温度系数特性。作为所有MOS结构的共性,该器件不会出现热失控和热致二次击穿现象
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      ¥9.29764
    是一种增强型(常开)晶体管,采用垂直 DMOS 结构和成熟的硅栅制造工艺。这种结合产生的器件具有双极晶体管的功率处理能力,以及 MOS 器件固有的高输入阻抗和正温度系数。作为所有 MOS 结构的特性,该器件不会出现热失控和热致二次击穿。垂直 DMOS FET 非常适合各种开关和放大应用,这些应用需要非常低的阈值电压、高击穿电压、高输入阻抗、低输入电容和快速开关速度。
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  • N沟道,25V,43A
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  • 这款低阈值、增强型(常开)晶体管采用垂直双扩散金属氧化物半导体(DMOS)结构和Supertex成熟的硅栅制造工艺。这种结合使该器件具备双极晶体管的功率处理能力,以及MOS器件固有的高输入阻抗和正温度系数。作为所有MOS结构的特性,该器件不会出现热失控和热致二次击穿现象
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      ¥5.54
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      ¥5.26
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  • MIC94052/94053是低导通电阻的P沟道MOSFET,最大导通电阻为84mΩ。它们采用Teeny SC70 - 6封装。MIC94052/3专为对空间要求严苛的高端开关应用而设计,在栅源电压为4.5V时,典型导通电阻为70mΩ
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      ¥5.5944 / 个
    这款低阈值耗尽型(常开)晶体管采用了先进的垂直双扩散金属氧化物半导体(VDMOS)结构和Supertex久经考验的硅栅制造工艺。这种结合使得该器件具备双极晶体管的功率处理能力,同时拥有MOS器件固有的高输入阻抗和正温度系数。作为所有MOS结构的特性,该器件不会出现热失控和热致二次击穿现象
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      ¥6.57
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  • 低阈值增强型(常开)晶体管采用垂直 DMOS 结构和成熟的硅栅制造工艺。这种结合使得该器件具备双极晶体管的功率处理能力,以及 MOS 器件固有的高输入阻抗和正温度系数。作为所有 MOS 结构的特性,该器件不会出现热失控和热致二次击穿。适用于广泛的开关和放大应用,这些应用需要非常低的阈值电压、高击穿电压、高输入阻抗、低输入电容和快速开关速度。
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  • 这种增强型(常关)晶体管采用垂直 DMOS 结构和成熟的硅栅制造工艺。这种结合使器件具备双极晶体管的功率处理能力,以及 MOS 器件固有的高输入阻抗和正温度系数。作为所有 MOS 结构的特性,该器件不会出现热失控和热致二次击穿。非常适合广泛的开关和放大应用,这些应用需要非常低的阈值电压、高击穿电压、高输入阻抗、低输入电容和快速开关速度。
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