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  • 双向、低导通电阻、低输入电容、快速开关速度、高输入阻抗和高增益、低功率驱动要求、易于并联。是一种低阈值、耗尽型(常开)晶体管,采用先进的横向 DMOS 结构和成熟的硅栅制造工艺。这种组合使器件具备双极晶体管的功率处理能力,以及 MOS 器件固有的高输入阻抗和正温度系数。所有 MOS 结构的特点是,该器件不会出现热失控和热致二次击穿。晶体管的主体连接到栅极引脚,因此沟道同时被栅极和主体夹断。栅极引脚有一个二极管连接到漏极端子,另一个二极管连接到源极端子。
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  • 是低阈值耗尽型(常开)晶体管,采用先进的垂直 DMOS 结构和成熟的硅栅制造工艺。结合了双极晶体管的功率处理能力,以及 MOS 器件固有的高输入阻抗和正温度系数。具有所有 MOS 结构的特性,无热失控和热致二次击穿问题。非常适合需要高击穿电压、高输入阻抗、低输入电容和快速开关速度的各种开关和放大应用。
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  • 由高压、低阈值的N沟道和P沟道MOSFET组成,采用8引脚SOIC和DFN封装。两个MOSFET都集成了栅源电阻和栅源齐纳二极管钳位,适用于高压脉冲应用。这是一款互补、高速、高压、栅极钳位的N沟道和P沟道MOSFET对,采用先进的垂直DMOS结构和成熟的硅栅制造工艺。这种组合使器件具备双极晶体管的功率处理能力,以及MOS器件固有的高输入阻抗和正温度系数。作为所有MOS结构的特性,该器件不会出现热失控和热致二次击穿。适用于需要非常低阈值电压、高击穿电压、高输入阻抗、低输入电容和快速开关速度的各种开关和放大应用。
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  • 由高压、低阈值 N 沟道和 P 沟道 MOSFET 组成,采用 8 引脚 SOIC 和 DFN 封装。两个 MOSFET 都集成了栅源电阻和栅源齐纳二极管钳位,适用于高压脉冲应用。是互补、高速、高压、栅极钳位的 N 沟道和 P 沟道 MOSFET 对,采用先进的垂直 DMOS 结构和成熟的硅栅制造工艺。结合了双极晶体管的功率处理能力以及 MOS 器件固有的高输入阻抗和正温度系数。具有 MOS 结构的特性,不会出现热失控和热致二次击穿。适用于需要非常低阈值电压、高击穿电压、高输入阻抗、低输入电容和快速开关速度的各种开关和放大应用。
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  • 是高电压N沟道耗尽型(常开)晶体管,采用横向DMOS技术。栅极具有ESD保护。适用于常开开关、精密恒流源、电压斜坡生成和放大等高压应用。
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  • 这是一款低阈值、耗尽型、常开型晶体管,采用先进的垂直扩散金属氧化物半导体 (DMOS) 结构和经过验证的硅栅制造工艺。这种结合使该器件具备双极晶体管的功率处理能力,以及金属氧化物半导体 (MOS) 器件固有的高输入阻抗和正温度系数。所有 MOS 结构的特点是,该器件不会出现热失控和热致二次击穿。垂直 DMOS 场效应晶体管 (FET) 非常适合广泛的开关和放大应用,这些应用需要极低的阈值电压、高击穿电压、高输入阻抗、低输入电容和快速开关速度。
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  • 由两对高压、低阈值N沟道和P沟道MOSFET组成,采用12引脚DFN封装。所有MOSFET都集成了输出漏极高压二极管、栅源电阻和栅源齐纳二极管钳位,适用于高压脉冲发生器应用。互补、高速、高压、栅极钳位的N沟道和P沟道MOSFET对采用先进的垂直DMOS结构和成熟的硅栅制造工艺。这种组合使器件具备双极晶体管的功率处理能力,以及MOS器件固有的高输入阻抗和正温度系数。所有MOS结构的特性使这些器件不会出现热失控和热致二次击穿。适用于需要极低阈值电压、高击穿电压、高输入阻抗、低输入和输出电容以及快速开关速度的各种开关和放大应用。
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  • 是高电压N沟道耗尽型(常开)晶体管,采用横向DMOS技术。栅极具有ESD保护。适用于常开开关、精密恒流源、电压斜坡生成和放大等高压应用。
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  • DN3545 耗尽型常开晶体管采用先进的垂直扩散金属氧化物半导体(DMOS)结构和成熟的硅栅制造工艺。这种结合造就了一种兼具双极晶体管功率处理能力以及金属氧化物半导体(MOS)器件固有高输入阻抗和正温度系数特性的器件。作为所有 MOS 结构的特性,该器件不会出现热失控和热致二次击穿现象
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  • 这款低阈值、耗尽型、常开晶体管采用先进的垂直扩散金属氧化物半导体 (DMOS) 结构和成熟的硅栅制造工艺。这种结合使该器件具备双极晶体管的功率处理能力,以及金属氧化物半导体 (MOS) 器件固有的高输入阻抗和正温度系数。所有 MOS 结构的特点是,该器件不会出现热失控和热致二次击穿。垂直 DMOS 场效应晶体管 (FET) 非常适合广泛的开关和放大应用,这些应用需要非常低的阈值电压、高击穿电压、高输入阻抗、低输入电容和快速开关速度。
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  • VP2450是一款低阈值、增强型(常关)晶体管,采用垂直双扩散金属氧化物半导体(DMOS)结构和成熟的硅栅制造工艺。这种结合使得该器件兼具双极晶体管的功率处理能力,以及MOS器件固有的高输入阻抗和正温度系数特性。作为所有MOS结构的共性,该器件不会出现热失控和热致二次击穿现象
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  • P-Channel Enhancement-Mode Lateral MOSFET使用横向MOS结构和成熟的硅栅制造工艺,结合了双极晶体管的功率处理能力和MOS器件的高输入阻抗及正温度系数特性。该器件无热失控和热致二次击穿问题,低阈值电压和低导通电阻特性适用于手持和电池供电应用。
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  • 这款低阈值、耗尽型、常开晶体管采用先进的垂直扩散金属氧化物半导体 (DMOS) 结构和成熟的硅栅制造工艺。这种结合使该器件具备双极晶体管的功率处理能力,以及金属氧化物半导体 (MOS) 器件固有的高输入阻抗和正温度系数。所有 MOS 结构的特点是,该器件不会出现热失控和热致二次击穿。垂直 DMOS 场效应晶体管 (FET) 非常适合广泛的开关和放大应用,这些应用需要非常低的阈值电压、高击穿电压、高输入阻抗、低输入电容和快速开关速度。
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  • 是低阈值耗尽型(常开)晶体管,采用先进的垂直 DMOS 结构和成熟的硅栅制造工艺。结合了双极晶体管的功率处理能力,以及 MOS 器件固有的高输入阻抗和正温度系数。具有所有 MOS 结构的特性,无热失控和热致二次击穿问题。非常适合需要高击穿电压、高输入阻抗、低输入电容和快速开关速度的各种开关和放大应用。
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  • TN2425低阈值增强型(常关)晶体管采用垂直双扩散金属氧化物半导体(DMOS)结构和成熟的硅栅制造工艺。这种结合造就了一种兼具双极晶体管功率处理能力,以及MOS器件固有的高输入阻抗和正温度系数的器件。作为所有MOS结构的特性,该器件不会出现热失控和热致二次击穿现象
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