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首页 > 热门关键词 > 场效应晶体管
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台积电流片,长电科技封装;是一款单路N型场效应晶体管,采用Trench工艺,适用于汽车电子模块、工业控制模块等领域。TO252;N—Channel沟道,100V;40A;RDS(ON)=30mΩ@VGS=10V,VGS=±20V;Vth=1~3V;
数据手册
  • 1+

    ¥5.073 ¥5.34
  • 10+

    ¥4.1705 ¥4.39
  • 30+

    ¥3.7145 ¥3.91
  • 100+

    ¥3.268 ¥3.44
  • 500+

    ¥2.5365 ¥2.67
  • 1000+

    ¥2.394 ¥2.52
  • 有货
  • 台积电流片,长电科技封装;是一款单路N型场效应晶体管,采用Trench工艺,适用于汽车电子模块、工业控制模块等领域。TO252;N—Channel沟道,100V;40A;RDS(ON)=30mΩ@VGS=10V,VGS=±20V;Vth=1~3V;
    数据手册
    • 1+

      ¥5.1205 ¥5.39
    • 10+

      ¥4.2085 ¥4.43
    • 30+

      ¥3.762 ¥3.96
    • 100+

      ¥3.306 ¥3.48
    • 500+

      ¥2.831 ¥2.98
    • 1000+

      ¥2.6885 ¥2.83
  • 有货
  • N 沟道增强型场效应晶体管 (FET),采用沟槽 MOSFET 技术,封装为小型 SOT23 (TO-236AB) 表面贴装器件 (SMD) 塑料封装。
    数据手册
    • 1+

      ¥5.95
    • 10+

      ¥4.98
    • 30+

      ¥4.5
    • 100+

      ¥4.02
    • 500+

      ¥3.73
    • 1000+

      ¥3.58
  • 有货
  • 台积电流片,长电科技封装;是一款单N型场效应晶体管,采用Trench技术技术,适用于各种高功率电源管理和功率控制应用。TO220;N—Channel沟道,100V;180A;RDS(ON)=3mΩ@VGS=10V,VGS=20V;Vth=2.5~3.5V;
    • 1+

      ¥10.234 ¥12.04
    • 10+

      ¥8.7295 ¥10.27
    • 50+

      ¥7.786 ¥9.16
    • 100+

      ¥6.8255 ¥8.03
    • 500+

      ¥6.3835 ¥7.51
    • 1000+

      ¥6.1965 ¥7.29
  • 有货
  • 本产品为1200V高压碳化硅N沟道场效应晶体管(MOSFET),具备优异的导通与开关性能。其最大连续漏极电流ID可达165A,漏源导通电阻RDON低至13mΩ,有效降低导通损耗,提高系统效率。采用碳化硅材料,具备高耐压、高热导率和低开关损耗特性,适用于高功率密度和高频开关场景。可广泛用于高效电源转换系统、可再生能源设备及智能电网相关电路中,提供稳定可靠的电力控制与传输解决方案。
    • 1+

      ¥131.9835 ¥138.93
    • 30+

      ¥125.6565 ¥132.27
  • 有货
  • 此款N沟道场效应晶体管采用SOT-323封装,具备漏源电压(Vdss):30V,连续漏极电流(Id):300mA,RDS:10V@0.3A=1R,适用于电池供电设备、便携式电子产品、逻辑电平转换、信号放大以及需要高效能和空间节省的电路设计中。
    • 50+

      ¥0.121315 ¥0.1277
    • 500+

      ¥0.095665 ¥0.1007
    • 1500+

      ¥0.081415 ¥0.0857
    • 5000+

      ¥0.072865 ¥0.0767
    • 25000+

      ¥0.065455 ¥0.0689
    • 50000+

      ¥0.061465 ¥0.0647
  • 有货
  • ES2302 S2是N沟道增强型MOS场效应晶体管。采用先进的沟槽技术和设计,可在低栅极电荷下实现出色的导通电阻RDS(ON)。该器件适用于直流-直流转换、电源开关和充电电路
    • 20+

      ¥0.1588
    • 200+

      ¥0.1237
    • 600+

      ¥0.1042
  • 有货
  • ES2302S 是 N 沟道增强型 MOS 场效应晶体管。采用先进的沟槽技术和设计,可在低栅极电荷下实现出色的导通电阻 RDS(ON)。该器件适用于 DC - DC 转换、电源开关和充电电路
    • 20+

      ¥0.1588
    • 200+

      ¥0.1237
    • 600+

      ¥0.1042
    • 3000+

      ¥0.0925
    • 9000+

      ¥0.0824
    • 21000+

      ¥0.0769
  • 有货
  • ES2301 S1 是 P 沟道增强型 MOS 场效应晶体管。采用先进的沟槽技术和设计,可在低栅极电荷的情况下提供出色的导通电阻 RDS(ON)。该器件适用于 DC - DC 转换、电源开关和充电电路
    • 20+

      ¥0.1588
    • 200+

      ¥0.1237
    • 600+

      ¥0.1042
  • 有货
  • IRLML5203TRPBF(ES) 是 P 沟道增强型 MOS 场效应晶体管。采用先进的沟槽技术和设计,可在低栅极电荷的情况下提供出色的 RDS(ON)。该器件适用于 DC - DC 转换、电源开关和充电电路
    • 20+

      ¥0.2077
    • 200+

      ¥0.1618
    • 600+

      ¥0.1363
  • 有货
  • N-沟道增强型功率场效应晶体管采用沟槽DMOS技术。这种先进技术经过专门设计,可将导通电阻降至最低,提供卓越的开关性能,并能在雪崩和换向模式下承受高能脉冲。这些器件非常适合高效快速开关应用。
    数据手册
    • 10+

      ¥0.214285 ¥0.2521
    • 100+

      ¥0.169405 ¥0.1993
    • 300+

      ¥0.146965 ¥0.1729
    • 3000+

      ¥0.130135 ¥0.1531
    • 6000+

      ¥0.11662 ¥0.1372
    • 9000+

      ¥0.109905 ¥0.1293
  • 有货
  • 台积电流片,长电科技封装;SOT23;P—Channel沟道,-20V;-3.5A;RDS(ON)=71mΩ@VGS=10V,VGS=12V;Vth=-0.7~-2V;是一款单路P型场效应晶体管,采用Trench工艺制造。具有优异的性能参数,适用于多种电路应用例如移动设备模块、LED照明驱动模块、电源管理模块。
    • 10+

      ¥0.219545 ¥0.2311
    • 100+

      ¥0.2147 ¥0.226
    • 300+

      ¥0.211375 ¥0.2225
    • 1000+

      ¥0.208145 ¥0.2191
  • 有货
  • SI1304BDL(ES) 是 N 沟道增强型 MOS 场效应晶体管。采用先进的沟槽技术和设计,在低栅极电荷的情况下实现出色的导通电阻 RDS(ON)。该器件适用于 DC-DC 转换、电源开关和充电电路
    • 20+

      ¥0.2225
    • 200+

      ¥0.1745
    • 600+

      ¥0.1505
    • 3000+

      ¥0.1325
    • 9000+

      ¥0.1181
    • 21000+

      ¥0.1109
  • 有货
  • 台积电流片,长电科技封装;这是一款单N型场效应晶体管,适用于多种应用场景。采用Trench工艺制造;可用作开关电源的关键部件,驱动汽车电子系统中的各种负载,控制和驱动各种工业设备和机器人系统。SOT23;N—Channel沟道,20V;6A;RDS(ON)=28mΩ@VGS=4.5V,VGS=12V;Vth=0.45~1V;
    数据手册
    • 10+

      ¥0.22724 ¥0.2392
    • 100+

      ¥0.2223 ¥0.234
    • 300+

      ¥0.21907 ¥0.2306
    • 1000+

      ¥0.215745 ¥0.2271
  • 有货
  • SI2304DDS-T1-GE3(ES) 是 N 沟道增强型 MOS 场效应晶体管。采用先进的沟槽技术和设计,可在低栅极电荷的情况下实现出色的导通电阻 RDS(ON)。该器件适用于 DC-DC 转换、电源开关和充电电路
    • 20+

      ¥0.2292
    • 200+

      ¥0.1812
    • 600+

      ¥0.1572
  • 有货
  • AO3406(ES) 是 N 沟道增强型 MOS 场效应晶体管。采用先进的沟槽技术和设计,可在低栅极电荷的情况下实现出色的导通电阻 RDS(ON)。该器件适用于 DC-DC 转换、电源开关和充电电路
    • 20+

      ¥0.2292
    • 200+

      ¥0.1812
    • 600+

      ¥0.1572
  • 有货
  • 是 N 沟道增强型 MOS 场效应晶体管。使用先进的沟槽技术和设计,可提供出色的导通电阻和低栅极电荷。适用于 DC-DC 转换、电源开关和充电电路。是无铅产品。
    数据手册
    • 20+

      ¥0.2302
    • 200+

      ¥0.1908
    • 600+

      ¥0.1689
    • 2000+

      ¥0.1558
    • 8000+

      ¥0.14
  • 有货
  • WNM2046 是 N 沟道增强型 MOS 场效应晶体管。采用先进的沟槽技术和设计,可在低栅极电荷的情况下实现出色的导通电阻 RDS(ON)。该器件适用于 DC-DC 转换、电源开关和充电电路
    数据手册
    • 10+

      ¥0.2313
    • 100+

      ¥0.1834
    • 300+

      ¥0.1595
    • 1000+

      ¥0.1415
    • 5000+

      ¥0.1271
    • 10000+

      ¥0.1199
  • 有货
  • BSS138PS,115(ES) 是 N 沟道增强型 MOS 场效应晶体管。采用先进的沟槽技术和设计,可在低栅极电荷的情况下实现出色的导通电阻 RDS(ON)。该器件适用于 DC-DC 转换、电源开关和充电电路
    • 20+

      ¥0.2321
    • 200+

      ¥0.1808
    • 600+

      ¥0.1523
    • 3000+

      ¥0.1352
  • 有货
  • SI2304DDS-T1-BE3(ES) 是 N 沟道增强型 MOS 场效应晶体管。采用先进的沟槽技术和设计,可在低栅极电荷的情况下提供出色的导通电阻 RDS(ON)。该器件适用于 DC-DC 转换、电源开关和充电电路
    • 10+

      ¥0.2521
    • 100+

      ¥0.1993
    • 300+

      ¥0.1729
    • 3000+

      ¥0.1531
    • 6000+

      ¥0.1372
    • 9000+

      ¥0.1293
  • 有货
  • AO3406A(ES) 是 N 沟道增强型 MOS 场效应晶体管。采用先进的沟槽技术和设计,可在低栅极电荷的情况下实现出色的导通电阻 RDS(ON)。该器件适用于 DC-DC 转换、电源开关和充电电路
    • 10+

      ¥0.275
    • 100+

      ¥0.2174
    • 300+

      ¥0.1886
  • 有货
  • AO6401A(ES) 是 P 沟道增强型 MOS 场效应晶体管。采用先进的沟槽技术和设计,可在低栅极电荷的情况下提供出色的导通电阻 RDS(ON)。该器件适用于 DC - DC 转换、电源开关和充电电路
    • 10+

      ¥0.275
    • 100+

      ¥0.2174
    • 300+

      ¥0.1886
  • 有货
  • IRLML0060TRPBF(ES) 是 N 沟道增强型 MOS 场效应晶体管。采用先进的沟槽技术和设计,可在低栅极电荷下实现出色的导通电阻 RDS(ON)。该器件适用于 DC - DC 转换、电源开关和充电电路
    • 10+

      ¥0.275
    • 100+

      ¥0.2174
    • 300+

      ¥0.1886
  • 有货
  • SI2347DS-T1-GE3(ES) 是 P 沟道增强型 MOS 场效应晶体管。采用先进的沟槽技术和设计,可在低栅极电荷的情况下提供出色的导通电阻 RDS(ON)。该器件适用于 DC-DC 转换、电源开关和充电电路
    • 10+

      ¥0.275
    • 100+

      ¥0.2174
    • 300+

      ¥0.1886
    • 3000+

      ¥0.167
    • 6000+

      ¥0.1497
    • 9000+

      ¥0.141
  • 有货
  • NTJD4001NT1G(ES) 是 N 沟道增强型 MOS 场效应晶体管。采用先进的沟槽技术和设计,可在低栅极电荷的情况下实现出色的导通电阻 RDS(ON)。该器件适用于 DC - DC 转换、电源开关和充电电路
    • 10+

      ¥0.2892
    • 100+

      ¥0.2268
    • 300+

      ¥0.1956
    • 3000+

      ¥0.1722
    • 6000+

      ¥0.1535
    • 9000+

      ¥0.1441
  • 有货
  • P-沟道增强型功率场效应晶体管采用沟槽 DMOS 技术。这种先进技术经过特别设计,可最大限度降低导通电阻,提供卓越的开关性能,并能承受雪崩和换向模式下的高能脉冲。这些器件非常适合高效快速开关应用。
    数据手册
    • 10+

      ¥0.292145 ¥0.3437
    • 100+

      ¥0.230945 ¥0.2717
    • 300+

      ¥0.200345 ¥0.2357
    • 3000+

      ¥0.177395 ¥0.2087
    • 6000+

      ¥0.159035 ¥0.1871
    • 9000+

      ¥0.149855 ¥0.1763
  • 有货
  • 双N沟道增强型场效应晶体管(FET),采用沟槽MOSFET技术,采用非常小的SOT363(SC-88)表面贴装器件(SMD)塑料封装。
    数据手册
    • 5+

      ¥0.3045
    • 50+

      ¥0.298
    • 150+

      ¥0.2936
    • 500+

      ¥0.2893
  • 有货
  • 台积电流片,长电科技封装;是一种单路P沟道场效应晶体管,采用Trench工艺制造,适用于各种不同的领域和模块,例如电池管理模块、充电电路和功率开关、家用电器中的电源开关和电动马达控制SOT23;P—Channel沟道,-30V;-5.6A;RDS(ON)=46mΩ@VGS=10V,VGS=20V;Vth=-0.5~-2V;
    数据手册
    • 5+

      ¥0.324235 ¥0.3413
    • 50+

      ¥0.317015 ¥0.3337
    • 150+

      ¥0.31217 ¥0.3286
    • 500+

      ¥0.307325 ¥0.3235
  • 有货
  • LPM3401是采用高单元密度DMOS沟槽技术制造的P沟道逻辑增强型功率场效应晶体管。这种高密度工艺专门用于最小化导通电阻。
    数据手册
    • 10+

      ¥0.340174 ¥0.4306
    • 100+

      ¥0.237498 ¥0.3442
    • 300+

      ¥0.17759 ¥0.301
    • 3000+

      ¥0.158474 ¥0.2686
    • 6000+

      ¥0.143193 ¥0.2427
    • 9000+

      ¥0.135523 ¥0.2297
  • 有货
  • ESPM3401 - 3/TR是P沟道增强型MOS场效应晶体管。采用先进的沟槽技术和设计,可在低栅极电荷的情况下提供出色的导通电阻RDS(ON)。该器件适用于DC - DC转换、电源开关和充电电路
    • 10+

      ¥0.3437
    • 100+

      ¥0.2717
    • 300+

      ¥0.2357
  • 有货
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