图:至纯科技
除了28nm工艺节点之外,上海证券报告中指出,至纯科技14nm及7nm工艺预计2022年可供客户验证,客户包括中芯国际、华虹集团、长鑫存储、华为、台湾力晶等行业领先者。
2020年至纯科技湿法工艺设备出货量超过30台,新增订单5.3亿元,增长211.8%。
“湿法工艺设备”在晶圆制造产线主要用于有效清洗晶圆表面的颗粒、金属离子以及一些氧化层等等,在最大程度上去除晶圆上的杂质。一般的清洗原理主要分为干式以及湿式两种,由于湿式的整体工作效率更好,因此国内超过百分90%的产线均采用湿法设备。
图:盛美半导体的湿法清洗设备
至纯科技表示,国内目前有三家在湿法工艺设备端提供中高阶湿法制程设备,分别是至纯科技、北方华创和盛美半导体,国内厂商的市场占比在逐年上升中。
同时,国内大型晶圆厂的新fab已经陆续批量采购本土厂商的刻蚀、清洗等工艺设备。
据招标网统计,2020年长江存储公开采招标设备1512台,其中北方华创合计中标50台,包括成膜设备4台,刻蚀设备12台,退火设备30台,氧化设备1台,炉管1台;盛美半导体共计中标11台清洗设备。
2020年华虹无锡12寸厂合计采购267台半导体设备,其中北方华创中标真空烘烤炉等12台设备,盛美半导体中标15台清洗设备。
LR8341A-T33/线性稳压器(LDO) | 0.143 | |
SN65LBC184DR/RS-485/RS-422芯片 | 3.75 | |
ADS1256IDBR/模数转换芯片ADC | 42.32 | |
ADS1220IPWR/模数转换芯片ADC | 16.35 | |
TMS320F28035PNT/单片机(MCU/MPU/SOC) | 18.66 | |
TPS54331DR/DC-DC电源芯片 | 0.8793 | |
ADS1115IDGSR/模数转换芯片ADC | 6.22 | |
AMC1200BDWVR/隔离放大器 | 3.69 | |
DRV8870DDAR/电机驱动芯片 | 1.7 | |
ISO3082DWR/RS-485/RS-422芯片 | 2.7 |
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