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  • 故技重施!美国正阻止EUV光刻机进入海力士中国厂

  • 2021-11-18 17:25 163
导读: 当地时间11月18日,路透社援引知情人士消息称, 美国官员不希望先进工艺半导体设备进入中国, S K 海力士无锡厂引进EUV将受到影响。


  

图:海力士无锡厂(二期)

三位知情人士称,事件缘由是SK海力士计划升级位于中国无锡的DRAM和NAND晶圆厂,同时配备荷兰ASML最新的极紫外(EUV)光刻机,从而成为全球最先进的存储器制造厂。


继特朗普游说荷兰政府阻止ASML向中芯国际出口EUV后,一位白宫高级官员称,拜登政府仍然专注于阻止中国利用美国和盟国的技术开发最先进的半导体制造技术


  

图:SK海力士CEO 李锡熙


据两位了解SK海力士的人士透露,ASML光刻机的进口问题在SK海力士内部引起了足够的关注,以至于首席执行官李锡熙在7月访问华盛顿期间向美国官员提出了这个问题。


但目前似乎并没有进展,且从本月SK海力士按要求向美国商务部递交产能和经营信息来看,前景非常不明朗。SK海力士称正在尽最大努力应对市场和客户的需求。


之所以EUV进口问题深受各方关注,首先在于无锡厂对全球电子行业至关重要。数据显示,无锡厂的DRAM芯片产量约占整个SK海力士的50%,占到全球总量的15%


  

图:DRAM技术路线(Tech Insights)


同时,一位了解海力士中国的消息人士表示,随着新工艺生产的存储芯片在两到三年内占据更大份额,SK海力士将需要借助EUV来降低平均成本、扩充产能,否则将在下个世代落后于三星和美光。


而不同之处在于,三星和美光已经采购了ASML的EUV机器,但并未在中国工厂部署使用。


而影响此事进展的另一方在于ASML,其发言人曾表示,该公司遵守所有出口管制法律,并将其视为政府确保国家安全的“有效工具”。


VLSIresearch分析称,这些规则(指设备出口限制)可能适用于中国的任何芯片制造业务,无论是外国的还是国内控制的,“任何在中国安装EUV工具的人都会为中国提供能力”


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