近日,台积电在“2026年度技术论坛”上,公布了未来几年的产能规划与市场预测。其预测,从2022年到2026年末,人工智能加速晶圆的需求将增长11倍。
展望2030年,随着人工智能推动全球计算基础设施的建设,全球半导体市场规模预计将超过1.5万亿美元(约合10.21 万亿元人民币),其中AI和高性能计算(HPC)将占55%,智能手机占20%,汽车应用占10%。
为满足AI和高性能计算的爆发式需求,台积电将大幅提升最先进2nm制程芯片产能:首年产量将比同期3nm晶圆高出45%,2026至2028年的复合年增长率预计达到70%。
3nm和5nm晶圆产能在2022至2027年的复合年增长率也将达到25%,CoWoS先进封装产能预计超过80%。

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为此,台积电在2025年和2026年加快产能建设,今年将新建九座晶圆制造厂和先进封装厂。整体来看,台积电预计新建和改造的工厂总数将达到18座,其中包括5座先进封装厂。
到2026年,其美国亚利桑那州工厂的产量将同比增长1.8倍,并达到与中国台湾工厂相当的良率水平。
目前在中国台湾,台积电共有12座晶圆厂和先进封装厂在建设中,计划在台湾新建4座晶圆厂和2座先进封装厂。其中,新竹的Fab 20和高雄的Fab 22是2nm量产核心基地,已于2022年动工并进入量产阶段;台中Fab 25厂于2025年动工,预计2028年开始量产2nm及更高制程。

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在美国台积电已经完成多座晶圆厂布局:第一座晶圆厂已于2024年第四季度量产4nm制程,产能预计到2026年增长1.8倍,并达到中国台湾总部相当良率;第二座晶圆厂设备搬迁预计于2026年下半年,2027年下半年开始生产3nm;第三座厂房主体结构已封顶;第四座晶圆厂和首个先进封装设施将于今年启动建设。
日本首家晶圆厂已量产22nm和28nm工艺,第二家晶圆厂完成升级,开始生产3nm芯片。德国工厂建设中,初期支持28nm和22nm制程,后续增加16nm和12nm工艺,主要服务汽车和工业客户。

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截至目前,台积电已收到约25个2nm产品设计定案,另有70多个客户设计方案正在筹划或开发中。
AI、高性能计算与手机应用是2nm制程的主要应用场景,预计第二年的2nm设计定案数量将达到同期5nm的4倍。
在工艺上,台积电A14制程预计2028年量产,采用第二代纳米片晶体管技术(NanoFlex Pro)和超级电轨技术,相比N2制程在相同功耗下速度提升15%,在相同性能下功耗可降低30%,逻辑和芯片密度分别提升至N2的1.23倍和1.2倍。
A13制程是A14的微缩版,通过将线性尺寸缩小3%,在保持设计规则和电气兼容性前提下,面积缩小6%,晶体管密度提升,预计2029年量产。
A12制程同样采用NanoFlex Pro和超级电轨技术,通过前后微缩实现整体密度提升,预计2029年量产。
注:按1 美元 ≈ 6.8078 元人民币汇率计算,消息数据来源:台积电、路透社




