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  • 功率MOSFET采用先进的平面VDMOS技术制造。由此产生的器件具有低导通电阻、卓越的开关性能和高雪崩能量。
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  • 该功率MOSFET采用先进的平面VDMOS技术制造。由此制成的器件具有低导通电阻、卓越的开关性能和高雪崩能量。漏源击穿电压(VDSS)650V,漏极电流(ID)7A,最大导通电阻(RDS(on))1.4Ω,典型栅极电荷(Qg)20.7nC
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  • 采用先进的超结技术制造。由此产生的器件具有极低的导通电阻,使其特别适用于需要卓越功率密度和出色效率的应用。
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  • 这些N沟道增强型功率场效应晶体管采用沟槽DMOS技术。这种先进技术经过专门设计,可最大限度地降低导通电阻,提供卓越的开关性能,并能承受雪崩和换向模式下的高能量脉冲。这些器件非常适合高效快速开关应用。
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  • 这些N沟道增强型功率场效应晶体管采用沟槽DMOS技术。这种先进技术经过专门设计,可最大限度地降低导通电阻,提供卓越的开关性能,并能承受雪崩和换向模式下的高能脉冲。这些器件非常适合高效快速开关应用。
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  • 功率MOSFET采用先进的平面垂直双扩散金属氧化物半导体(VDMOS)技术制造。由此制成的器件具有低导通电阻、卓越的开关性能和高雪崩能量。
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  • 这些N沟道增强型功率场效应晶体管采用分裂栅沟槽DMOS技术。这种先进技术经过专门设计,可最大限度地降低导通电阻,提供卓越的开关性能,并能承受雪崩和换向模式下的高能脉冲。这些器件非常适合高效快速开关应用。
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